展商资讯丨上海隐冠半导体技术有限公司参展第104届中国电子展
来源：CEF组委会发布时间：11-4-2024,
第104届中国电子展（CEF）定于2024年11月18日至20日在上海新国际博览中心盛大举行。本次展会特别设置了核心先导基础元器件馆以及终端创新应用馆，旨在全面展示电子信息行业的最新成果与未来趋势，为参展商与观众搭建一个高效、专业的交流平台。
- 参展企业简介 -
上海隐冠半导体技术有限公司
隐冠半导体成立于2019年，是一家专注半导体制造、量检测和先进封装装备精密运动平台及核心部件研发与生产的高科技创新型企业。
公司拥有上海、苏州、广州基地，打造精密运动台、特种电机、压电产品、驱控产品和精密零部件五大产线，建立了完备的技术研发与生产体系，为精密运动定位及控制提供优越、可靠的解决方案。隐冠着力解决半导体装备关键核心部件的产业化问题，开拓多维度应用领域，形成多品种多系列的量产精品。
- 展示范围 -
复合式多轴精密位移系统
◆ X、Y1/Y2、Z、T五轴
◆ 机械导轨与气浮导轨的复合应用
◆ 360°无限制旋转运动，无管路缠绕，支持12'、8'、6'多种规格晶圆吸附
◆行程：320 mm（X轴）；550 mm（Y1/Y2）；10 mm（Z轴，可定制）
◆ 双向重复精度：±0.4μm（X、Y轴）；±0.3μm/2 mm & ±1μm over range（Z轴）；±2 arcsec（T轴）
◆ 垂向磁悬浮重力补偿
◆ 最大支持转速150rpm
极坐标精密位移台
◆ X、Z、T三轴
◆ 360°无限制旋转运动
◆ X轴行程：155 mm
◆ Z轴行程：30 mm （可定制）
◆ 最大转速：150 rpm
◆双向重复精度：±0.5μm（X轴）；±0.2μm/1mm（Z轴）；±2 arcsec（T轴）
◆ 磁浮重力补偿技术
◆ 主动式风冷/水冷散热设计
高真空精密二维位移台
◆ X、Y两轴
◆ 行程：300-400 mm（X轴）；220-320 mm（Y轴）
◆ 双向重复精度：±0.5μm（X、Y轴）
◆ 最大负载：13.5 Kg
◆ 适用于10⁻⁵Pa及以下超高真空环境
◆ 平台材料可选非磁性材料，整体漏磁可达nT级
磁浮集成式ZT台
◆ Z、T两轴
◆ 360°无限制旋转运动
◆ Z轴行程：10 mm - 30 mm （可定制）
◆ 最大转速：150 rpm
◆ 双向重复精度：±0.3μm/1mm（Z轴）；±2 arcsec（T轴）
◆ Z轴直线度：2 μm
◆ 磁浮重力补偿技术
◆ 全闭环伺服设计
◆ 支持12'、8'、6'多种规格晶圆吸附
叠堆型压电陶瓷致动器
◆ 驱动电压 -20 ~ +150V
◆ 2 ~ 100μm运动行程
◆ 适用于高真空环境10⁻⁶ Pa
◆ 亚纳米分辨率
◆ 高居里温度230°C
微步电机
◆ 高驱动力
◆ 纳米精度
◆ 高静态保持力
◆ 大行程范围
◆ 高分辨率
静电吸盘
◆ 库伦型吸盘或梯度力吸盘
◆ 支持双电极、多电极、叉指电极等设计
◆ 适用于10⁻⁵ Pa及以下超高真空环境
◆ 静电吸附力大
◆ 吸附面全局面型精度高
◆ 吸附面表面图形可定制
◆ 适用于无磁环境
◆ 吸附对象包括晶圆，蓝宝石、玻璃等介电材料
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